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However, it takes more than the technology alone to produce precision finishing specifications.
It takes a company with extensive knowledge and experience with a broad range of materials and applications. A company capable of creating customized, turnkey precision finishing solutions utilizing the latest conventional and super abrasive techniques. It takes Lapmaster International, your partner in precision funishing technology.
- 2014/05/30 "Lapmaster Japan" opened Corporate Site.
研究開発用CMP装置
研究開発用CMP装置
研究/開発/生産用途に最適な高機能モデル卓上式小型CMP装置から大型CMP装置まで用意しております。
又、卓上式小型CMP装置は中型・大型CMP装置同様の加工要素機能を備えており、研究開発に役だっております。
【高付加価値のための精密研磨】に執筆しております。
MODEL:LM-15ーSⅠ(卓上型) | MODEL:LM-15ーSⅡ(卓上型) | |
小径の化合物半導体ウェハのCMP加工やCMPスラリー、パッド、そしてダイヤモンドドレッサー等の研究開発装置として最適でございます。加工ヘッドは1軸タイプと2軸タイプが用意されており、装置には加工ヘッドのオシレーション、強制ドライブ駆動、そしてそれらは低摩擦シリンダーによる精密加圧制御で動作し、他段階レシピも備えられております。 加工ヘッドはバキュームタイプ、バックタイプの他、センター加圧式など多くのヘッドをワンタッチで交換可能な機構となっております。量産CMP装置の機構要素を多く含んだ小型卓上型CMP装置です。 |
モデル:LM-24- CMP | ||
1.高精度・高剛性スピンドル CMP加工において最も重要とされるポリシングプレートの面ブレの極小化と偏荷重にも耐えうる剛性を高めた設計のスピンドルにより高精度研磨を実現しました。 2.ポリシングプレート ポリシングプレートには超平坦アルミナセラミックスを採用し、加工中の熱膨張により変形、歪みを最小限に抑えております。ワンタッチで取り外しが可能で、スペアプレートがあれば消耗品のコストを低減することが可能です。 ポリシングヘッドは2軸有し、2軸使用した2枚のワーク加工、片側にワーク、もう一方にドレッサーを取り付けたインラインドレッシング加工の選択を可能にしました。またポリシングヘッドの構造はエアバックや液体を封入した独自のヘッド方式の選択が可能です。 3.ポリシングヘッド 対応ウェハサイズはΦ4"、Φ6"、Φ8"。ポリシングヘッドはワンタッチで交換可能な機構となっております。 低摩擦シリンダーを採用したことにより、加圧の追従性を高めました。 4.オシレーション機構 高精度、高剛性LMガイドを採用し、加工中の不確定要素となる振動の低減を実現しています。 5.両軸(ヘッド)単体強制駆動機構 両軸(ヘッド)に対し『加圧力』『回転数』を単体入力可能でありそれぞれの軸(ヘッド)に強制駆動機構を採用しています。 6.加工レシピ 他段階ステップを有し、複雑な研磨レシピに対応。 |
仕 様 |
小型卓上型ラッピング/ポリシング装置
小型卓上型ラッピング/ポリシング装置
ラップジャパン小型卓上式ラッピング/ポリシング装置はユニークな機械で比類のない遊離砥粒切削方式による機械であり非常に経済的です。 加工物を一括して一度に多量の加工が出来ます。結果として加工能率が向上し、加工単価の切り下げが可能です。 卓越した卓上式ラッピング/ポリシング装置で他の、どの方式よりも平坦度、寸法制御、平行度、表面仕上がりが、より高度に得られます。光学的に平坦な表面とミクロンオーダーの仕上がり面が均一的に得られます。 ラップジャパン小型卓上式ラッピング/ポリシング装置は自動車産業、建設機械産業、宇宙関連産業、ポンプ、コンピューター、ディーゼルエンジン、コンプレッサー、光学関連産業、電子関連産業に広く使用され、どの様な精密平面でも、面粗さでも要求にお答えし、効果的に着実に仕事をこなします。
15インチ ラッピング/ポリシング装置
15インチ ラッピング/ポリシング装置
ラップジャパン小型卓上式ラッピング/ポリシング装置はユニークな機械で比類のない遊離砥粒切削方式によりラッピング装置であり非常に経済的です。
加工物を一括して一度に多量の加工が出来ます。結果として加工能率が向上し、加工単価の切り下げが可能です。
卓越した卓上式ラッピング/ポリシング装置で、他の、どの方式より平坦度、寸法制御、平行度、表面仕上がりが、より高度に得られます。光学的に平坦な表面とミクロンオーダーの仕上がり面が均一的に得られます。
MODEL:LP-15-ODP | MODEL:LP-15-ODPF | |
仕 様 |
フェーシング加工を行う時のバイトZ軸は数値制御で動作しております。 加工条件を入力する事により繰り返しのフェーシング及びスパイラル溝加工が全自動で行えます。 |
■ラップジャパン水冷システムの原理と必要性 | |
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1.原理 ラップジャパン水冷システムは、工水あるいはチラーにより温度管理された冷却水が、ラッププレート下のベースプレート内の水路を通過することにより、ラッププレートを冷却します。 |
2.必要性 ラッピング加工は、常時ラッププレートと被加工物が遊離砥粒を介在して、すり合わさっているため、研磨熱が発生します。 このため、長時間ラッピング加工を継続しますと、ラッププレートの膨張が起こり、平坦度がこわれ、被加工物の平面精度の再現性を維持することが困難になります。 また、研磨熱によりワックスのハガレも問題になります。ラップジャパン水冷システムは、これらの大きな問題を、ラッププレートを効率良く冷却することにより、全て解消します。 |
24インチ ラッピング/ポリシング装置
24インチ ラッピング/ポリシング装置
MODEL:LJ-24 | MODEL:LJP-24 | |
MODEL:LJX-24 | ||
フェーシング加工を行う時のバイトZ軸は数値制御で動作しております。 加工条件を入力する事により繰り返しのフェーシング及びスパイラル溝加工が全自動で行えます。 |
仕 様 |
■ラップジャパン水冷システムの原理と必要性 | |
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1.原理 ラップジャパン水冷システムは、工水あるいはチラーにより温度管理された冷却水が、ラッププレート下のベースプレート内の水路を通過することにより、ラッププレートを冷却します。 |
2.必要性 ラッピング加工は、常時ラッププレートと被加工物が遊離砥粒を介在して、すり合わさっているため、研磨熱が発生します。 このため、長時間ラッピング加工を継続しますと、ラッププレートの膨張が起こり、平坦度がこわれ、被加工物の平面精度の再現性を維持することが困難になります。 また、研磨熱によりワックスのハガレも問題になります。ラップジャパン水冷システムは、これらの大きな問題を、ラッププレートを効率良く冷却することにより、全て解消します。 |
36インチ ラッピング/ポリシング装置
36インチ ラッピング/ポリシング装置
48インチ ラッピング/ポリシング装置
48インチ ラッピング/ポリシング装置
ラッピング定盤加工サービス
ラッピング定盤加工サービス
当社専用の加工装置でお客様要求仕様に合わせてお仕上げいたします。 |
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ダイヤモンドラッピング加工で使用する金属定盤等、お客様の仕様に合わせてV溝、凹溝形状の加工を致します。 | ||
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ウエハ平坦度測定器
ウエハ平坦度測定器
ウエハワックス貼り付け装置
ウエハワックス貼り付け装置
真空式大口径エアーバック加圧システム
MODEL:LAPJAPAN LHP-500 | |||
LAPJAPAN LTP-500は各種ウェハ対応の多機能なワックス貼り付け装置です。本装置はウェハを真空室内でエアーバック加圧式による高精度なワックス貼り付け装置です。 ウェハワックスの貼り付け温度制御、圧力制御、ウェハワックス冷却制御をPLCで行っており、ワックスの膜厚均一化、ウェハの反りに対応しております。 |
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貼り付けプレート最大φ485㎜対応 | φ500㎜大口径エアーバック | |